《真空》(雙月刊)是中國(guó)真空界主要雜志之一。自1964年創(chuàng)刊，真空雜志轉(zhuǎn)換經(jīng)營(yíng)機(jī)制以來(lái)，由我國(guó)真空企業(yè)界實(shí)力雄厚的廠家與雜志社聯(lián)辦成立董事會(huì)，并由真空學(xué)術(shù)界著名學(xué)者組成編委會(huì)。社會(huì)效益與經(jīng)濟(jì)效益與日俱增，在國(guó)內(nèi)真空界享有盛譽(yù)。自1989年公開發(fā)行以來(lái)，被美國(guó)、英國(guó)、德國(guó)、日本、意大利、韓國(guó)以及港澳地區(qū)越來(lái)越多的海外學(xué)者所關(guān)注。

《真空》近年又首批入編“中國(guó)學(xué)術(shù)期刊光盤版”。由于本刊特色。30多年來(lái)在我國(guó)真空界享有盛名，頗受廣大讀者歡迎。為我國(guó)真空業(yè)界首選技術(shù)刊物。發(fā)行全國(guó)24個(gè)省市、自治區(qū)，并與境內(nèi)外多種刊物交換收存。

本刊特邀、專家聚焦、創(chuàng)新產(chǎn)品、太陽(yáng)能利用、經(jīng)驗(yàn)介紹、真空技術(shù)及應(yīng)用系列講座。

　　近紅外區(qū)高透射率In2O3：W透明導(dǎo)電氧化物薄膜的研究 　　離子束后處理對(duì)TiO2薄膜光學(xué)性質(zhì)影響的實(shí)驗(yàn)研究 　　真空電弧鍍沉積高溫防護(hù)涂層技術(shù) 　　LaB6薄膜的制備工藝研究 　　低溫多晶硅薄膜的制備工藝研究 　　金屬鋁離子注入摻雜制備氧化鋅鋁薄膜的研究 　　熱絲CVD制備微晶硅薄膜的研究 　　類金剛石膜的性能、制備與應(yīng)用 　　磁控濺射TiAlNO薄膜的結(jié)構(gòu)與力學(xué)性能 　　直流磁控濺射制備TiNxOy薄膜的性能研究 　　摻氮類金剛石薄膜的制備及其結(jié)構(gòu)表征 　　室溫直流磁控濺射制備ITO膜及光電性能研究 　　可編程序控制器在卷繞式鍍膜機(jī)中的應(yīng)用 　　基于變壓法的變壓器真空干燥設(shè)備的監(jiān)控系統(tǒng)設(shè)計(jì) 　　第十六講 真空系統(tǒng)的操作與維護(hù) 　　前蘇聯(lián)高真空擴(kuò)散泵統(tǒng)一系列工作的回顧 　　渦旋真空泵應(yīng)力與變形的ANSYS模擬與研究 　　圓弧包絡(luò)線在羅茨轉(zhuǎn)子型線設(shè)計(jì)中的應(yīng)用

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